Silicid niklu - Nickel silicide - Wikipedia

NiSi₂
Identifikátory
Číslo CAS	12201-89-7;
Vlastnosti
Chemický vzorec	NiSi2
Molární hmotnost	114,864 g / mol
Hustota	7,83 g / cm3
Bod tání	993 ° C (1819 ° F; 1266 K)
Struktura
Krystalická struktura	Krychlový, cF12
Vesmírná skupina	Fm3m, č. 225
Mřížková konstanta	A = 0,5406 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
	Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
	Reference Infoboxu

NiSi
Identifikátory
Číslo CAS	12035-57-3;
3D model (JSmol )	Interaktivní obrázek;
PubChem CID	10176091;
	InChI InChI = 1S / Ni.Si Klíč: PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N;
	ÚSMĚVY [Si]. [Ni];
Vlastnosti
Chemický vzorec	NiSi
Molární hmotnost	86,778 g / mol
Struktura
Krystalická struktura	Ortorfomický, oP8
Vesmírná skupina	Pnma, č. 62
Mřížková konstanta	A = 0,519 nm, b = 0,333 nm, C = 0,5628 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
	Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
	Reference Infoboxu

Ni₂Si
Identifikátory
Číslo CAS	12059-14-2;
3D model (JSmol )	Interaktivní obrázek;
ChemSpider	21241520;
Číslo ES	235-033-1;
PubChem CID	14767304;
	InChI InChI = 1S / 2Ni.Si Klíč: RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N;
	ÚSMĚVY [Si] (= [Ni]) = [Ni];
Vlastnosti
Chemický vzorec	Ni2Si
Molární hmotnost	145,473 g / mol
Hustota	7,40 g / cm3
Bod tání	1255 ° C (2291 ° F; 1528 K)
Struktura
Krystalická struktura	Ortorombický, oP12
Vesmírná skupina	Pnma, č. 62
Mřížková konstanta	A = 0,502 nm, b = 0,374 nm, C = 0,708 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
	Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
	Reference Infoboxu

Silicidy niklu zahrnout několik intermetalické sloučeniny nikl a křemík. Silicidy niklu jsou důležité v mikroelektronika jak se tvoří na spojích niklu a křemíku. Navíc mohou být použity tenké vrstvy silicidů niklu, které dodávají povrchové odolnosti slitinám niklu.

Sloučeniny

Mezi silicidy niklu patří Ni₃Si, Ni₃₁Si₁₂, Ni₂Si, Ni₃Si₂, NiSi a NiSi₂.^[5] Ni₃₁Si₁₂, Ni₂Si a NiSi mít shodné body tání; ostatní tvoří přes a peritektický proměna.^{[Citace je zapotřebí ]}Silicidy mohou být vyrobeny fúzí nebo reakcí v pevném stavu mezi prvky, difúzí na spojnici těchto dvou prvků a dalšími metodami, včetně míchání iontovým paprskem.^{[Citace je zapotřebí ]}

Vlastnosti

Silicidy niklu jsou obecně chemicky a tepelně stabilní.^{[Citace je zapotřebí ]} Mají nízký elektrický odpor; s NiSi 10,5–18 μΩ · cm, Ni₂Si 24–30 μΩ · cm, NiSi₂ 34–50 μΩ · cm; silicidy bohaté na nikl mají vyšší měrný odpor stoupající na 90–150 μΩ · cm v Ni₃₁Si₁₂.^{[Citace je zapotřebí ]}

Použití

Mikroelektronika

Silicidy niklu jsou důležité v mikroelektronických zařízeních - specifické silicidy jsou dobré vodiče, přičemž NiSi má vodivost blížící se vodivosti elementárního niklu.^{[Citace je zapotřebí ]}S karbid křemíku protože polovodičový nikl reaguje při zvýšených teplotách za vzniku silicidů niklu a uhlík.^{[Citace je zapotřebí ]}

jiný

Silicidy niklu mají potenciál jako povlaky na bázi niklu superslitiny a nerezová ocel, kvůli jejich korozi, oxidaci a odolnosti proti opotřebení.^{[Citace je zapotřebí ]}NiSi byl vyšetřován jako hydrogenace katalyzátor pro nenasycené uhlovodíky.^[6] Jako alternativa byly navrženy nanočástice na bázi niklu a silicidu podporované na podpoře oxidu křemičitého katalyzátor na široce používaný pyroforický Raney nikl. ^[7]

Viz také

J. Marvin Herndon, který prosazoval teorii, že zemské jádro je silicid niklu
Titan disilicid, také se používá v mikroelektronice
Vražda, samovyrovnávací silicidy

Reference

^ ^A ^b ^C ^d ^E ^F Haynes, William M., ed. (2011). CRC Handbook of Chemistry and Physics (92. vydání). CRC Press. str. 4,77. ISBN 978-1439855119.
^ El Boragy M., Rajasekharan T.P., Schubert K. (1982). Z. Metallkd., 73, 193–197
^ Wopersnow W., Schubert K. (1976) Z. Metallkd., 67, 807–810
^ Beck, U .; Neumann, H.-G .; Becherer, G. (1973). „Phasenbildung in Ni / Si-Schichten“. Kristall und Technik. 8 (10): 1125–1129. doi:10,1002 / crat.19730081005.
^ Dahal, Ashutosh; Gunasekera, Jagath; Harringer, Leland; Singh, Deepak K .; Singh, David J. (červenec 2016), "Silicidy niklu: Experimenty a teorie pro NiSi a výpočty prvních principů pro jiné fáze", Journal of Alloys and Compounds, 672: 110–116, arXiv:1602.05840, doi:10.1016 / j.jallcom.2016.02.02.133
^ Itahara, Hiroši; Simanullang, Wiyanti F .; Takahashi, Naoko; Kosaka, Satoru; Furukawa, Shinya (2019), „Na-Melt Syntéza jemného Ni₃Si prášky jako hydrogenační katalyzátor ", Anorganická chemie, 58 (9): 5406–5409, doi:10.1021 / acs.inorgchem.9b00521, PMID 30983337
^ P. Ryabchuk, G. Agostini, M.-M. Pohl, H. Lund, A. Agapova, H. Junge, K. Junge a M. Beller, Sci. Adv., 2018, 4, eaat0761 https://doi.org/10.1126/sciadv.aat0761

Další čtení

Lavoie, C .; d’Heurle, F.M .; Detavernier, C .; Cabral, C. (listopad 2003), „K implementaci procesu silicidu niklu pro technologie CMOS“, Mikroelektronické inženýrství, 70 (2–4): 144–157, doi:10.1016 / S0167-9317 (03) 00380-0

[crc-1] A ^b ^C ^d ^E ^F Haynes, William M., ed. (2011). CRC Handbook of Chemistry and Physics (92. vydání). CRC Press. str. 4,77. ISBN 978-1439855119.

[2] El Boragy M., Rajasekharan T.P., Schubert K. (1982). Z. Metallkd., 73, 193–197

[3] Wopersnow W., Schubert K. (1976) Z. Metallkd., 67, 807–810

[4] Beck, U .; Neumann, H.-G .; Becherer, G. (1973). „Phasenbildung in Ni / Si-Schichten“. Kristall und Technik. 8 (10): 1125–1129. doi:10,1002 / crat.19730081005.

[5] Dahal, Ashutosh; Gunasekera, Jagath; Harringer, Leland; Singh, Deepak K .; Singh, David J. (červenec 2016), "Silicidy niklu: Experimenty a teorie pro NiSi a výpočty prvních principů pro jiné fáze", Journal of Alloys and Compounds, 672: 110–116, arXiv:1602.05840, doi:10.1016 / j.jallcom.2016.02.02.133

[6] Itahara, Hiroši; Simanullang, Wiyanti F .; Takahashi, Naoko; Kosaka, Satoru; Furukawa, Shinya (2019), „Na-Melt Syntéza jemného Ni₃Si prášky jako hydrogenační katalyzátor ", Anorganická chemie, 58 (9): 5406–5409, doi:10.1021 / acs.inorgchem.9b00521, PMID 30983337

[7] P. Ryabchuk, G. Agostini, M.-M. Pohl, H. Lund, A. Agapova, H. Junge, K. Junge a M. Beller, Sci. Adv., 2018, 4, eaat0761 https://doi.org/10.1126/sciadv.aat0761

[1]

[2]

[3]

[4]

[5]

[6]

[7]

Identifikátory

Číslo CAS	12059-14-2
3D model (JSmol )	Interaktivní obrázek
ChemSpider	21241520
Číslo ES	235-033-1
PubChem CID	14767304
InChI InChI = 1S / 2Ni.Si Klíč: RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N
ÚSMĚVY [Si] (= [Ni]) = [Ni]
Vlastnosti
Chemický vzorec	Ni₂Si
Molární hmotnost	145,473 g / mol^[1]
Hustota	7,40 g / cm³^[1]
Bod tání	1255 ° C (2291 ° F; 1528 K)^[1]
Struktura^[2]
Krystalická struktura	Ortorombický, oP12
Vesmírná skupina	Pnma, č. 62
Mřížková konstanta	A = 0,502 nm, b = 0,374 nm, C = 0,708 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
Reference Infoboxu

Identifikátory

Číslo CAS	12035-57-3
3D model (JSmol )	Interaktivní obrázek
PubChem CID	10176091
InChI InChI = 1S / Ni.Si Klíč: PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N
ÚSMĚVY [Si]. [Ni]
Vlastnosti
Chemický vzorec	NiSi
Molární hmotnost	86,778 g / mol
Struktura^[3]
Krystalická struktura	Ortorfomický, oP8
Vesmírná skupina	Pnma, č. 62
Mřížková konstanta	A = 0,519 nm, b = 0,333 nm, C = 0,5628 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
Reference Infoboxu

Identifikátory

Číslo CAS	12201-89-7
Vlastnosti
Chemický vzorec	NiSi₂
Molární hmotnost	114,864 g / mol^[1]
Hustota	7,83 g / cm³^[1]
Bod tání	993 ° C (1819 ° F; 1266 K)^[1]
Struktura^[4]
Krystalická struktura	Krychlový, cF12
Vesmírná skupina	Fm3m, č. 225
Mřížková konstanta	A = 0,5406 nm
Jednotky vzorce (Z)	4
Pokud není uvedeno jinak, jsou uvedeny údaje o materiálech v nich standardní stav (při 25 ° C [77 ° F], 100 kPa).
Reference Infoboxu