Věda a technologie plazmových zdrojů - Plasma Sources Science and Technology
Jazyk | Angličtina |
---|---|
Upraveno podle | Uwe Czarnetzki |
Podrobnosti o publikaci | |
Dějiny | 1992-dosud |
Vydavatel | IOP Publishing (UK) |
Frekvence | 12 |
3.193 (2019) | |
Standardní zkratky | |
ISO 4 | Zdroje plazmy Sci. Technol. |
Indexování | |
ISSN | 0963-0252 (tisk) 1361-6595 (web) |
Odkazy | |
Věda a technologie plazmových zdrojů je mezinárodní časopis věnovaný výhradněfúze aspekty plazma Věda.
Časopis byl založen v roce 1992 profesorem Noah Hershkowitz z University of Wisconsin – Madison který do roku 2007 působil také jako šéfredaktor. Mark J. Kushner z Michigan Institute for Plasma Science and Engineering, Michiganská univerzita převzal vedení časopisu až do roku 2013, kdy profesor Bill Graham, Queen's University Belfast, se stal šéfredaktorem. Po profesorovi Grahamovi následoval profesor Uwe Czarnetzki, Ruhr University Bochum, který se stal šéfredaktorem v roce 2017. Profesor Czarnetzki se aktivně podílí na peer-review každého papíru.
Deník je indexován Scopus, INSPEC Informační služby, ISI (SciSearch, ISI Alerting Services, Current Contents / Physical, Chemical and Earth Sciences), Chemické souhrny, INIS Atomindex (Mezinárodní jaderný informační systém ), Astrofyzikální datový systém NASA, PASCAL Database, Article @INIST, Engineering Index / Ei Compendex, Cambridge Scientific Abstracts (Environmental Engineering Abstracts, Bioengineering Abstracts) a VINITI Abstracts Journal.