Tvorba nanočástic indukovaná iontovou implantací - Ion implantation-induced nanoparticle formation
 | tento článek potřebuje další citace pro ověření. (Dubna 2018) (Zjistěte, jak a kdy odstranit tuto zprávu šablony) |
Tvorba nanočástic indukovaná iontovou implantací je technika pro vytváření částic o velikosti nanometrů pro použití v elektronice.
Iontová implantace
Iontová implantace je technika široce používaná v oblasti věda o materiálech pro modifikaci materiálu. Účinek, který má nanomateriály umožňuje manipulaci s mechanickými, elektronickými, morfologickými a optickými vlastnostmi.[1]
Jednorozměrné nano materiály významně přispívají k vytváření nano zařízení, tj. tranzistory s efektem pole, nanogenerátory a solární články. Nabídka potenciál vysoké hustoty integrace, nižší spotřeba energie, vyšší rychlost a super vysoká frekvence.
Účinky iontové implantace se liší podle více proměnných. Kolize kaskády může dojít během implantace a to způsobuje intersticiální reklamy a volná místa v cílových materiálech (i když tyto vady lze zmírnit dynamickým žíháním). Kolizní režimy jsou jaderná kolize, elektronová kolize a výměna poplatků. Dalším procesem je prskání efekt, který významně ovlivňuje morfologii a tvar nanomateriálů.
Reference
- ^ Qing Li, Wen; Xiao, Xiangheng; Stepanov, Andrey; Dai, Zhigao; wu, Wei; Xu Cai, Guang; Ren, Feng; Jiang, C (17. dubna 2013). „Vlastnosti jednorozměrných nanomateriálů vyvolané iontovou implantací“. Nanoscale Research Letters. 8 (1): 175. Bibcode:2013NRL ..... 8..175L. doi:10.1186 / 1556-276X-8-175. PMC 3668221. PMID 23594476.
 | Tento článek týkající se nanotechnologií je pahýl. Wikipedii můžete pomoci pomocí rozšiřovat to. |